產(chǎn)品展示PRODUCTS
epMotion 5075t 自動液體處理系統(tǒng)
更新時間：2025-06-03
訪問量：2114
廠商性質：代理商
生產(chǎn)地址：
epMotion 5075t 自動液體處理系統(tǒng)
產(chǎn)品信息
epMotion 5075t 自動液體處理系統(tǒng)整合了 Eppendorf ThermoMixer® 模塊，可以混勻、加熱或冷卻樣品和試劑。 運行過程中，可以通過機械手將耗材轉移至ThermoMixer 上，滿足實驗過程中樣品及試劑加熱冷卻以及混勻處理的需要。 Eppendorf ThermoMixer 模塊*由軟件進行控制，無需人工干預，混勻儀工作時，其他板位上可同時進行移液工作。
ThermoMixer®
ThermoMixer 與 2DMix-Control 深度整合，可以改進您的產(chǎn)量和應用表現(xiàn)， 例如重懸細菌沉淀或磁珠。 用于加熱和冷卻
樣品和/或試劑的 Peltier 元件。 以下 epMotion 版本配有 ThermoMixer 功能：M5073、5075t、5075m、5075vt。 對于 epMotion 5075l、5075v 和后續(xù)版本 5075LH 與 5075VAC，可提供 ThermoMixer 升級組件。
二代測序 (NGS) 樣品制備
過程中涉及大量人工處理程序，這些程序中可能出現(xiàn)人為錯誤。 Eppendorf epMotion 液體處理系統(tǒng)是可以顯著提高您的實驗室通量和結果一致性的重要工具。 NGS 樣本制備中勞動密集型步驟（諸如移液、混勻、溫度控制和磁性分離）的自動化，將帶來標準化和簡化的流程，并將顯著縮短完成時間和減少人工錯誤。
針對 Illumina 的 TruSeq Stranded Total RNA 和 TruSeq Stranded mRNA 文庫制備試劑盒的 epMotion 自動化方法“經(jīng)過 Illumina 驗證”。
機械手工具
機械手工具可以在 epMotion 5073 或 5075 工作板位上遞送耗材。 可自動切換并加載工具，軟件編程也是簡單易用。 可以堆疊多 5 個工作版。
epMotion 5075t 自動液體處理系統(tǒng)
產(chǎn)品特性
- 同 5075l， 加上
- 整合了 Eppendorf ThermoMixer 與 2DMix-Control 技術
- 溫控范圍：室溫下15 °C 至95 °C
- 自動設定耗材安全混勻速度，大速度高達 2,000 rpm
- 在混勻的同時，在標準位置上可以進行移液工作
- 14.5 個板位，14 個 SLAS/ANSI 工作板位，加上 1 個小的位置用于放置特殊的試劑槽支架（3 個試劑槽）
- 可選裝多2個溫控模塊
|
|
SLAS/ANSI 工作板位 | 14,5 |
冷卻速率 | 4 °C/min |
升溫速率 | 9 °C/min |
夾板器承載量 | 1,200 g |
操作 | 全自動 |
混勻頻率 | 關閉，300– 2,000 rpm，針對各種耗材與程序優(yōu)化 |
溫度均一性 | ≤10% 于模塊上 |
移液類型 | 氣體活塞 |
應用 | Nucleic acid purification |
升溫速率 | 5 °C/分鐘, 于模塊上 |
冷卻速率 | 3 °C/分鐘, 于模塊上，室溫以上 |
體積范圍 | 0.2 µL – 1 mL |
電源 | 100?–?240 V ±10 %, 50?–?60 Hz ±5 % |
大能耗 | 700 W |
尺寸 (W?×?D?×?H) | 107?× 61?× 67?cm?/ 43?× 24?× 27?in |
重量（不含附件） | 87 kg?/?191.8 lb |
溫度范圍 | 室溫下-15°C 到 95°C，在裝有75% 液體的耗材中測定 |
Eppendorf ThermoMixer® |
|
大載重 | 1,000 g (2.2 lb) |
混合時間 | 5 秒 – 120 分鐘 |
溫度范圍 | 溫控范圍：室溫下 15 °C 至 95 °C |
速度 | 300 rpm – 2,000 rpm |
溫控模塊（可選） |
|
溫度范圍 | 0°C - 110°C |
導線 – X，Y，Z 定位 |
|
系統(tǒng)測量誤差 | ±0.3 mm |
隨機測量誤差 | ±0.1 mm |
檢測器 |
|
光學傳感器 | 非接觸探測液面、插入工具、耗材、吸頭類型和數(shù)量 |
光學共焦紅外檢測器 | 非接觸探測液面、插入工具、耗材、吸頭類型和數(shù)量 |
自由射流分液模式的分液工具，無預濕，有蒸餾水，溫度為 20?°C參見 Eppendorf 應用文獻 No了解常見移液性能 |
|
系統(tǒng)測量誤差 (1?µL) | ±5 % |
系統(tǒng)測量誤差 (1,000?µL) | ±0.7 % |
系統(tǒng)測量誤差 (50?µL) | ±1.2 % |
隨機測量誤差 (1?µL) | ≤3 % |
隨機測量誤差 (1,000?µL) | ≤0.15 % |
隨機測量誤差 (50?µL) | ≤0.4 % |
